深圳光电载板电镀加工，凸点电镀加工

2026-08-25 04:46:01 1362次浏览

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关键加工环节

前处理：包括除油、微蚀、活化，确保载板表面洁净无杂质。

电镀沉积：通过电解或化学沉积方式，让金属离子均匀附着在载板表面。

后处理：涵盖清洗、烘干、检测，保障镀层质量达标。

核心工艺要求

镀层精度：厚度公差需控制在 ±0.1μm 内，镀层均匀性误差不超过 5%。

适配细线路需求：针对 IC 载板的微线路（线宽 / 线距＜20μm），需避免镀层桥连、空洞。

材质兼容性强：需匹配 ABF 膜、BT 树脂、陶瓷等不同载板基材，不损伤基材性能。

主流镀层类型及用途

铜镀层：核心导电层，用于线路互联，厚度通常 1-5μm，要求高导电性和附着力。

镍镀层：中间阻挡层，防止铜扩散，厚度 0.5-2μm，提升后续镀层结合力。

金镀层：表面焊接 / 键合层，用于芯片键合或引脚焊接，厚度 0.1-1μm，分硬金（耐磨）、软金（易键合）。

锡镀层：低成本焊接层，替代部分金镀层，厚度 1-3μm，要求无针孔、可焊性好。

通讯载板电镀加工工艺流程

前处理：包括对载板进行激光钻微导通孔、去钻污等操作，然后用化学镀铜或碳直接金属化工艺等进行初级金属化，形成一层薄的导电晶种层，为后续电镀做准备。

图形电镀：在经过前处理的载板上，通过光刻技术形成图形，然后进行电镀，在线路 / 焊盘区域电镀厚铜，通常厚度在 5-20μm，以实现电流传输与芯片键合支撑。

表面处理电镀：根据需求在载板表面电镀镍、钯、金等镀层，如采用 ENEPIG/ENIG 工艺，提升焊盘的抗氧化性与键合可靠性。

后处理：电镀完成后，进行清洗、烘干等操作，去除表面残留的电镀液和杂质，然后对镀层进行检测，如检测镀层厚度、附着力、孔隙率等，确保产品质量符合要求。