2025-09-09 04:36:01 14次浏览
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镀层微观质量:避免内部缺陷影响可靠性
载板镀层的致密度、纯度直接影响电气性能(如电阻、迁移风险)和耐腐蚀性。
孔隙率:
标准:铜镀层孔隙率≤1 个 /cm²(用酸性硫酸铜溶液测试,孔隙会析出铜粉);镍层孔隙率≤0.5 个 /cm²;
检测工具:孔隙率测试仪、SEM(观察微观孔洞)。
晶粒结构:
标准:铜镀层晶粒均匀,平均晶粒尺寸 50-200nm(晶粒过粗易导致镀层脆化,过细易产生应力);
检测工具:透射电镜(TEM)、X 射线衍射仪(XRD)。
杂质含量:
标准:高纯度铜镀层(99.99% 以上),杂质(如 Fe、Zn、Pb)总含量≤50ppm;镍镀层杂质总含量≤100ppm;
检测工具:电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)。
电气性能:保障信号传输与电流承载
载板需满足高频、大电流封装场景,电气性能是核心指标。
镀层电阻:
标准:铜镀层电阻率≤1.72×10⁻⁸Ω・m(接近纯铜理论值,杂质会导致电阻升高);
检测工具:四探针电阻测试仪。
电迁移抗性:
标准:在 1×10⁵A/cm² 电流密度、125℃环境下,铜镀层电迁移失效时间≥1000h(避免长期使用中因金属迁移导致短路);
检测方法:JEDEC JESD22-A108 电迁移测试标准。
载板电镀检测需严格遵循标准,确保一致性和可靠性,常用标准包括:
IPC 标准:
IPC-6012DS:《刚性印制板的鉴定与性能规范(载板专用补充版)》,明确载板镀层厚度、附着力要求;
IPC-TM-650:《印制板测试方法手册》,包含镀层厚度、附着力、孔隙率等测试方法。
JEDEC 标准:
JEDEC JESD22-A108:《集成电路封装的电迁移测试》;
JEDEC JESD22-B103:《高温存储测试》,用于评估镀层长期耐热性。
企业定制标准:
主流封装厂(如台积电、长电科技)会在上述标准基础上提出更严格要求(如凸点高度偏差≤±5%),需根据具体订单调整检测阈值。
生产效率
水平线生产速度1.5-6.0m/min,具体根据基材厚度,小孔径,盲孔,纵横比等参数调整,整个流程时间在4-10min;
导通能力
No ICD,IST测试(百万通孔测试) CAF测试(小间距CAF改善)