2025-09-11 02:37:01 17次浏览
价 格:面议
注意事项
1.化学处理液的浓度和电流要控制在合理的范围内,否则会使电镀层厚度和均匀度出现不合格情况。
2.金属载板的质量和表面处理决定了电镀层质量的好坏。
3.电镀过程容易产生热量,需要及时流动冷却水,并注意防止电解质溅出。
4.电极需要保持干净,以确保电流正常稳定。
镀层几何参数:控制是基础
载板的超细线路 / 凸点对几何尺寸要求极高,偏差会直接导致封装失效(如键合不良、短路)。
检测项目 核心标准要求 检测工具
镀层厚度 - 图形铜:厚度偏差≤±10%(如设计 10μm,实际需在 9-11μm);
- 镍层:2-5μm,偏差≤±0.5μm;
- 金层:0.05-0.15μm(ENEPIG),偏差≤±20% X 射线荧光测厚仪(XRF)、金相显微镜
凸点尺寸(Bump) - 直径偏差≤±5%(如设计 50μm,实际 47.5-52.5μm);
- 高度偏差≤±8%;
- 同一载板凸点高度差≤5μm 激光共聚焦显微镜、3D 轮廓仪
线路 / 焊盘精度 - 线宽偏差≤±10%(如设计 15μm,实际 13.5-16.5μm);
- 焊盘直径偏差≤±5%;
- 线路边缘粗糙度(Ra)≤1μm
镀层微观质量:避免内部缺陷影响可靠性
载板镀层的致密度、纯度直接影响电气性能(如电阻、迁移风险)和耐腐蚀性。
孔隙率:
标准:铜镀层孔隙率≤1 个 /cm²(用酸性硫酸铜溶液测试,孔隙会析出铜粉);镍层孔隙率≤0.5 个 /cm²;
检测工具:孔隙率测试仪、SEM(观察微观孔洞)。
晶粒结构:
标准:铜镀层晶粒均匀,平均晶粒尺寸 50-200nm(晶粒过粗易导致镀层脆化,过细易产生应力);
检测工具:透射电镜(TEM)、X 射线衍射仪(XRD)。
杂质含量:
标准:高纯度铜镀层(99.99% 以上),杂质(如 Fe、Zn、Pb)总含量≤50ppm;镍镀层杂质总含量≤100ppm;
检测工具:电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)。
电气性能:保障信号传输与电流承载
载板需满足高频、大电流封装场景,电气性能是核心指标。
镀层电阻:
标准:铜镀层电阻率≤1.72×10⁻⁸Ω・m(接近纯铜理论值,杂质会导致电阻升高);
检测工具:四探针电阻测试仪。
电迁移抗性:
标准:在 1×10⁵A/cm² 电流密度、125℃环境下,铜镀层电迁移失效时间≥1000h(避免长期使用中因金属迁移导致短路);
检测方法:JEDEC JESD22-A108 电迁移测试标准。