2025-09-09 08:39:01 8次浏览
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载板电镀核心工艺类型
在了解检测标准前,需先明确载板电镀的关键场景,不同工艺的检测重点略有差异:
种子层电镀:通常为薄层高纯度铜(1-3μm),用于后续图形电镀的导电基底,要求低电阻、无针孔;
图形电镀:核心工艺,在线路 / 焊盘区域电镀厚铜(5-20μm,甚至更高),实现电流传输与芯片键合支撑;
凸点(Bump)电镀:如铜凸点、锡凸点,用于芯片与载板的倒装焊互连,要求的高度 / 直径控制;
表面处理电镀:如镍(Ni)、钯(Pd)、金(Au)镀层(ENEPIG/ENIG 工艺),提升焊盘抗氧化性与键合可靠性。
电气性能:保障信号传输与电流承载
载板需满足高频、大电流封装场景,电气性能是核心指标。
镀层电阻:
标准:铜镀层电阻率≤1.72×10⁻⁸Ω・m(接近纯铜理论值,杂质会导致电阻升高);
检测工具:四探针电阻测试仪。
电迁移抗性:
标准:在 1×10⁵A/cm² 电流密度、125℃环境下,铜镀层电迁移失效时间≥1000h(避免长期使用中因金属迁移导致短路);
检测方法:JEDEC JESD22-A108 电迁移测试标准。
载板电镀检测需严格遵循标准,确保一致性和可靠性,常用标准包括:
IPC 标准:
IPC-6012DS:《刚性印制板的鉴定与性能规范(载板专用补充版)》,明确载板镀层厚度、附着力要求;
IPC-TM-650:《印制板测试方法手册》,包含镀层厚度、附着力、孔隙率等测试方法。
JEDEC 标准:
JEDEC JESD22-A108:《集成电路封装的电迁移测试》;
JEDEC JESD22-B103:《高温存储测试》,用于评估镀层长期耐热性。
企业定制标准:
主流封装厂(如台积电、长电科技)会在上述标准基础上提出更严格要求(如凸点高度偏差≤±5%),需根据具体订单调整检测阈值。
载板电镀与传统 PCB 电镀的核心差异
载板电镀的标准严苛性远高于传统 PCB,核心差异体现在:
对比维度 传统 PCB 电镀 载板电镀
线宽 / 焊盘尺寸 通常≥50μm 常<20μm(超细线路)
镀层厚度偏差 ≤±15% ≤±10%(部分场景≤±8%)
附着力要求 ≥0.5N/mm(铜镀层) ≥0.8N/mm(铜镀层)
杂质含量 总杂质≤100ppm 总杂质≤50ppm(高纯度)
可靠性测试时长 湿热试验 500h 湿热试验 1000h