2025-09-09 07:42:01 10次浏览
价 格:面议
载板电镀是先进封装载板(如 IC 载板、扇出型封装载板等)制造中的核心工艺,其质量直接决定载板的电气性能、可靠性及封装良率。由于载板需实现高密度互连(HDI)、超细线路 / 焊盘(线宽 / 线距常<20μm)及承载芯片的高可靠性要求,其电镀工艺及质量检测标准远高于传统 PCB,核心围绕 “镀层均匀性、致密度、附着力、纯度” 四大维度展开
镀层几何参数:控制是基础
载板的超细线路 / 凸点对几何尺寸要求极高,偏差会直接导致封装失效(如键合不良、短路)。
检测项目 核心标准要求 检测工具
镀层厚度 - 图形铜:厚度偏差≤±10%(如设计 10μm,实际需在 9-11μm);
- 镍层:2-5μm,偏差≤±0.5μm;
- 金层:0.05-0.15μm(ENEPIG),偏差≤±20% X 射线荧光测厚仪(XRF)、金相显微镜
凸点尺寸(Bump) - 直径偏差≤±5%(如设计 50μm,实际 47.5-52.5μm);
- 高度偏差≤±8%;
- 同一载板凸点高度差≤5μm 激光共聚焦显微镜、3D 轮廓仪
线路 / 焊盘精度 - 线宽偏差≤±10%(如设计 15μm,实际 13.5-16.5μm);
- 焊盘直径偏差≤±5%;
- 线路边缘粗糙度(Ra)≤1μm
载板电镀与传统 PCB 电镀的核心差异
载板电镀的标准严苛性远高于传统 PCB,核心差异体现在:
对比维度 传统 PCB 电镀 载板电镀
线宽 / 焊盘尺寸 通常≥50μm 常<20μm(超细线路)
镀层厚度偏差 ≤±15% ≤±10%(部分场景≤±8%)
附着力要求 ≥0.5N/mm(铜镀层) ≥0.8N/mm(铜镀层)
杂质含量 总杂质≤100ppm 总杂质≤50ppm(高纯度)
可靠性测试时长 湿热试验 500h 湿热试验 1000h
相比黑影/日蚀,黑孔,导电膜等其他空金属化工艺,石墨烯孔金属化工艺采用二维材料高导电-石墨烯材料作为导电材料,高导电,超薄,吸附性强;物理性吸附;
石墨烯超低固含量0.01%-0.5%,彻底避免黑影,日蚀,黑孔等工艺常见的ICD异常问题;
在导通测试中,阻值变化为1.43%,IPC标准≤10%;在极限热冲击测试中,沉铜27次,石墨烯孔金属化工艺31次;