2025-09-09 06:51:02 12次浏览
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载板电镀核心工艺类型
在了解检测标准前,需先明确载板电镀的关键场景,不同工艺的检测重点略有差异:
种子层电镀:通常为薄层高纯度铜(1-3μm),用于后续图形电镀的导电基底,要求低电阻、无针孔;
图形电镀:核心工艺,在线路 / 焊盘区域电镀厚铜(5-20μm,甚至更高),实现电流传输与芯片键合支撑;
凸点(Bump)电镀:如铜凸点、锡凸点,用于芯片与载板的倒装焊互连,要求的高度 / 直径控制;
表面处理电镀:如镍(Ni)、钯(Pd)、金(Au)镀层(ENEPIG/ENIG 工艺),提升焊盘抗氧化性与键合可靠性。
载板电镀与传统 PCB 电镀的核心差异
载板电镀的标准严苛性远高于传统 PCB,核心差异体现在:
对比维度 传统 PCB 电镀 载板电镀
线宽 / 焊盘尺寸 通常≥50μm 常<20μm(超细线路)
镀层厚度偏差 ≤±15% ≤±10%(部分场景≤±8%)
附着力要求 ≥0.5N/mm(铜镀层) ≥0.8N/mm(铜镀层)
杂质含量 总杂质≤100ppm 总杂质≤50ppm(高纯度)
可靠性测试时长 湿热试验 500h 湿热试验 1000h
生产效率
水平线生产速度1.5-6.0m/min,具体根据基材厚度,小孔径,盲孔,纵横比等参数调整,整个流程时间在4-10min;
导通能力
No ICD,IST测试(百万通孔测试) CAF测试(小间距CAF改善)
可靠性/信耐度
漂锡测试:288度10sec,31次极限测试;(631所)
导通测试&Reflow 回流焊:260度,10秒20次;阻值变化
1.43%,
热油测试:260度,20秒,20次;125-65度,15min,500次;、 IST互联内应力测试:25-125度,1000次;