2025-09-10 11:21:02 15次浏览
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优点和应用
1.性:通过成批生产方式,可以大大提高生产效率。
2.高精度:金属载板上的电镀涂层具有高精度和高均匀性,可以实现亚微米级的精度和优异的表面光洁度。
3.高复杂度:载板电镀可以实现各种形状和尺寸的金属结构,可应用于复杂的电子元器件和机械结构上。
4.应用广泛:载板电镀被广泛应用于电子、通讯、光电、汽车等领域,比如手机屏幕、LED芯片、连接器、汽车排气管等。
镀层几何参数:控制是基础
载板的超细线路 / 凸点对几何尺寸要求极高,偏差会直接导致封装失效(如键合不良、短路)。
检测项目 核心标准要求 检测工具
镀层厚度 - 图形铜:厚度偏差≤±10%(如设计 10μm,实际需在 9-11μm);
- 镍层:2-5μm,偏差≤±0.5μm;
- 金层:0.05-0.15μm(ENEPIG),偏差≤±20% X 射线荧光测厚仪(XRF)、金相显微镜
凸点尺寸(Bump) - 直径偏差≤±5%(如设计 50μm,实际 47.5-52.5μm);
- 高度偏差≤±8%;
- 同一载板凸点高度差≤5μm 激光共聚焦显微镜、3D 轮廓仪
线路 / 焊盘精度 - 线宽偏差≤±10%(如设计 15μm,实际 13.5-16.5μm);
- 焊盘直径偏差≤±5%;
- 线路边缘粗糙度(Ra)≤1μm
镀层微观质量:避免内部缺陷影响可靠性
载板镀层的致密度、纯度直接影响电气性能(如电阻、迁移风险)和耐腐蚀性。
孔隙率:
标准:铜镀层孔隙率≤1 个 /cm²(用酸性硫酸铜溶液测试,孔隙会析出铜粉);镍层孔隙率≤0.5 个 /cm²;
检测工具:孔隙率测试仪、SEM(观察微观孔洞)。
晶粒结构:
标准:铜镀层晶粒均匀,平均晶粒尺寸 50-200nm(晶粒过粗易导致镀层脆化,过细易产生应力);
检测工具:透射电镜(TEM)、X 射线衍射仪(XRD)。
杂质含量:
标准:高纯度铜镀层(99.99% 以上),杂质(如 Fe、Zn、Pb)总含量≤50ppm;镍镀层杂质总含量≤100ppm;
检测工具:电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)。
载板电镀与传统 PCB 电镀的核心差异
载板电镀的标准严苛性远高于传统 PCB,核心差异体现在:
对比维度 传统 PCB 电镀 载板电镀
线宽 / 焊盘尺寸 通常≥50μm 常<20μm(超细线路)
镀层厚度偏差 ≤±15% ≤±10%(部分场景≤±8%)
附着力要求 ≥0.5N/mm(铜镀层) ≥0.8N/mm(铜镀层)
杂质含量 总杂质≤100ppm 总杂质≤50ppm(高纯度)
可靠性测试时长 湿热试验 500h 湿热试验 1000h