2025-09-09 11:42:01 30次浏览
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主流电镀类型及应用场景
不同电镀金属的特性差异显著,需根据 PCB 的终用途选择,常见类型对比如下:
电镀类型 核心成分 关键特性 典型应用场景
酸性镀铜 硫酸铜、硫酸 镀层纯度高(99.9% 以上)、导电性好、易增厚 多层板过孔电镀(孔壁铜)、线路铜层增厚
氰化物镀银 氰化银、氰化物 导电性、焊接性好,但易硫化发黑 高频通信 PCB(如 5G 基站板)、射频电路
无氰镀银 硫代硫酸盐等 环保(无剧毒氰化物),性能接近氰化物镀银 消费电子 PCB(如手机主板)、环保要求高的场景
化学镀镍金 镍磷合金 + 纯金 耐腐蚀性强、接触电阻低、耐高温 连接器 PCB(如 USB 接口板)、按键板
热风整平(HASL) 锡铅合金(或无铅锡) 成本低、焊接适应性强,但表面平整度差 传统消费
前处理:确保镀层结合力(关键环节)
去油脱脂:使用碱性清洗剂(如氢氧化钠溶液)去除基板表面的油污、指纹,避免镀层与基板结合不良。
微蚀:用酸性溶液(如过硫酸铵 + 硫酸)轻微腐蚀铜箔表面,形成粗糙的微观结构(增大接触面积),同时去除铜表面的氧化层。
活化:针对非铜表面(如过孔内壁的树脂),使用钯盐溶液活化,形成 “催化核心”,为后续化学镀铜提供附着点。
化学镀铜(沉铜):在无外接电源的情况下,通过化学反应(如甲醛还原硫酸铜)在过孔内壁和基板表面沉积一层薄铜(厚度 0.5-1μm),为后续电解镀铜 “打底”。
石墨烯孔金属化工艺是与传统化学铜,黑影/日蚀等平行的线路板孔金属化技术,属于直接电镀工艺,其特点可靠,低成本,低碳环保节能降耗,可循环再利用。
相比黑影/日蚀,黑孔,导电膜等其他空金属化工艺,石墨烯孔金属化工艺采用二维材料高导电-石墨烯材料作为导电材料,高导电,超薄,吸附性强;物理性吸附;
石墨烯超低固含量0.01%-0.5%,彻底避免黑影,日蚀,黑孔等工艺常见的ICD异常问题;
在导通测试中,阻值变化为1.43%,IPC标准≤10%;在极限热冲击测试中,沉铜27次,石墨烯孔金属化工艺31次;
生产效率
水平线生产速度1.5-6.0m/min,具体根据基材厚度,小孔径,盲孔,纵横比等参数调整,整个流程时间在4-10min;