2025-09-10 07:17:01 5次浏览
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线路板电镀的核心目的
电镀并非单一功能工艺,而是服务于 PCB 多维度性能需求,具体可分为以下 4 类:
实现电路导通:在基板(如 FR-4 环氧树脂板)表面的铜箔线路上增厚铜层,或在多层板的 “过孔”(Via)内壁电镀铜,解决层间电路的导通问题(多层板核心需求)。
提升电流承载能力:普通覆铜板的铜箔厚度仅 35μm(1oz),无法满足大电流场景(如电源板),通过电镀将铜层增厚至 70μm(2oz)甚至更高,避免电流过大导致线路烧毁。
增强表面防护:在铜层表面电镀锡、镍金、银等金属,隔绝空气与铜的接触,防止铜氧化或硫化,同时提升焊接性能(如锡层助焊、镍金层适应高频信号)。
优化机械性能:部分场景(如连接器 PCB)需电镀硬金(含钴、镍的合金金),提升表面硬度和耐磨性,延长插拔使用寿命。
前处理:确保镀层结合力(关键环节)
去油脱脂:使用碱性清洗剂(如氢氧化钠溶液)去除基板表面的油污、指纹,避免镀层与基板结合不良。
微蚀:用酸性溶液(如过硫酸铵 + 硫酸)轻微腐蚀铜箔表面,形成粗糙的微观结构(增大接触面积),同时去除铜表面的氧化层。
活化:针对非铜表面(如过孔内壁的树脂),使用钯盐溶液活化,形成 “催化核心”,为后续化学镀铜提供附着点。
化学镀铜(沉铜):在无外接电源的情况下,通过化学反应(如甲醛还原硫酸铜)在过孔内壁和基板表面沉积一层薄铜(厚度 0.5-1μm),为后续电解镀铜 “打底”。
电镀核心环节:控制镀层厚度
电解镀铜:将 PCB 作为阴极,放入酸性镀铜液中,通以直流电(电流密度 1-3A/dm²,温度 20-25℃),铜离子在阴极放电沉积,使线路和过孔铜层增厚至目标厚度(如 15-30μm)。
注:需使用 “象形阳极”(与 PCB 线路形状匹配的阳极),避免电流分布不均导致边缘镀层过厚、中间过薄。
选择性电镀(如镀镍金):若需局部电镀(如连接器焊盘),需先贴干膜或涂阻镀漆,遮挡无需电镀区域,仅暴露目标区域进行镍金电镀(镍层 5-10μm,金层 0.1-0.5μm)。
尤其适合高纵横比通盲孔多层,软板多层,软硬结合板,IC载板,超细微孔/盲孔10-30微米通孔/盲孔
可靠性/信耐度
漂锡测试:288度10sec,31次极限测试;(631所)
导通测试&Reflow 回流焊:260度,10秒20次;阻值变化
1.43%,
热油测试:260度,20秒,20次;125-65度,15min,500次;、 IST互联内应力测试:25-125度,1000次;