2025-09-11 01:41:01 7次浏览
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镀层附着强度:防止镀层脱落失效
载板在封装焊接(高温)、芯片组装(应力)过程中,镀层若附着力不足会脱落,导致电气中断。
检测方法:
划格法(IPC-TM-650 2.4.29):用划格刀在镀层表面划 1mm×1mm 网格(划透至基材),贴胶带剥离后,网格内镀层脱落面积需≤5%;
剥离试验(IPC-TM-650 2.4.30):对镀层施加垂直拉力,铜镀层附着力需≥0.8N/mm(载板专用要求,高于传统 PCB 的 0.5N/mm);
热冲击试验后附着力:经 - 55℃(30min)→125℃(30min)循环 100 次后,重复上述测试,附着力衰减≤20%。
镀层微观质量:避免内部缺陷影响可靠性
载板镀层的致密度、纯度直接影响电气性能(如电阻、迁移风险)和耐腐蚀性。
孔隙率:
标准:铜镀层孔隙率≤1 个 /cm²(用酸性硫酸铜溶液测试,孔隙会析出铜粉);镍层孔隙率≤0.5 个 /cm²;
检测工具:孔隙率测试仪、SEM(观察微观孔洞)。
晶粒结构:
标准:铜镀层晶粒均匀,平均晶粒尺寸 50-200nm(晶粒过粗易导致镀层脆化,过细易产生应力);
检测工具:透射电镜(TEM)、X 射线衍射仪(XRD)。
杂质含量:
标准:高纯度铜镀层(99.99% 以上),杂质(如 Fe、Zn、Pb)总含量≤50ppm;镍镀层杂质总含量≤100ppm;
检测工具:电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)。
电气性能:保障信号传输与电流承载
载板需满足高频、大电流封装场景,电气性能是核心指标。
镀层电阻:
标准:铜镀层电阻率≤1.72×10⁻⁸Ω・m(接近纯铜理论值,杂质会导致电阻升高);
检测工具:四探针电阻测试仪。
电迁移抗性:
标准:在 1×10⁵A/cm² 电流密度、125℃环境下,铜镀层电迁移失效时间≥1000h(避免长期使用中因金属迁移导致短路);
检测方法:JEDEC JESD22-A108 电迁移测试标准。
应用产品类型
各种材料:常规及改良聚酰亚胺,液晶材料,聚四氟乙烯,聚酯树脂,陶瓷基板等;
硬板,软板,软硬结合板,HDI, IC载板等;
尤其适合高纵横比通盲孔多层,软板多层,软硬结合板,IC载板,超细微孔/盲孔10-30微米通孔/盲孔