深圳坪山专业载板电镀加工服务提供商,经验丰富,量大从优
2025-11-11 03:00:01 159次浏览
价 格:面议
载板电镀是一种高精度、性、高复杂度的电镀加工工艺,可以广泛应用于电子、通讯、光电、汽车等行业。掌握载板电镀的基本原理、工艺流程、适用范围和注意事项,可以有效提高金属结构的质量和生产效率。
镀层附着强度:防止镀层脱落失效
载板在封装焊接(高温)、芯片组装(应力)过程中,镀层若附着力不足会脱落,导致电气中断。
检测方法:
划格法(IPC-TM-650 2.4.29):用划格刀在镀层表面划 1mm×1mm 网格(划透至基材),贴胶带剥离后,网格内镀层脱落面积需≤5%;
剥离试验(IPC-TM-650 2.4.30):对镀层施加垂直拉力,铜镀层附着力需≥0.8N/mm(载板专用要求,高于传统 PCB 的 0.5N/mm);
热冲击试验后附着力:经 - 55℃(30min)→125℃(30min)循环 100 次后,重复上述测试,附着力衰减≤20%。
载板电镀的质量检测需围绕 “高精度、高可靠性、高纯度” 展开,通过多维度检测(几何、附着、微观、电气、环境)确保满足先进封装的严苛需求,同时需结合行业标准与下游定制要求动态调整检测方案。
相比黑影/日蚀,黑孔,导电膜等其他空金属化工艺,石墨烯孔金属化工艺采用二维材料高导电-石墨烯材料作为导电材料,高导电,超薄,吸附性强;物理性吸附;
石墨烯超低固含量0.01%-0.5%,彻底避免黑影,日蚀,黑孔等工艺常见的ICD异常问题;
在导通测试中,阻值变化为1.43%,IPC标准≤10%;在极限热冲击测试中,沉铜27次,石墨烯孔金属化工艺31次;
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载板电镀加工的成本核心由 “材料 + 工艺 + 产能 + 辅助” 四大类因素构成。核心成本构成因素原材料成本:占比,主要是镀层金属(铜、镍、金等)的价格波动,以及电镀液、添加剂等耗材费用。工艺相关成本:包括前处理 / 后处理的化学药剂、水电
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前处理:包括除油、微蚀等步骤,去除基板表面的有机物和氧化层,粗化表面以提高镀层附着力。对于罗杰斯等特殊基材,可能还需要进行等离子体处理。种子层沉积:采用化学镀或物相沉积(PVD)方法,在基板表面形成一层薄的导电种子层,通常为铜或镍,厚度约
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核心工艺特点镀层材质以铜、镍、金、锡为主,适配不同电子场景需求。对镀层均匀性、厚度精度要求极高,通常需控制在微米级。需结合载板材质(如陶瓷、树脂、硅)定制前处理和电镀参数。主要应用场景半导体封装载板:实现芯片与基板的电连接,提升散热效率。P
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低信号损耗:利用银等低电阻率金属作为镀层材料,在高频趋肤效应下,降低信号传输损耗。如沉银工艺在 10GHz 信号下,插入损耗仅为 0.18dB / 厘米。表面平整度高:为减少信号散射,电镀层需具备极高的表面平整度,特别是在微带线、共面波导等
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核心适用场景消费电子载板:手机、电脑的 PCB 主板、柔性载板,需轻量化、高导电镀层。工业电子载板:工控设备、汽车电子的耐高温载板,侧重镀层稳定性和抗老化性。特种电子载板:医疗设备、航空航天用载板,要求镀层低杂质、高可靠性。通讯载板电镀加工
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常见镀层材料及应用金:具有良好的导电性、耐腐蚀性和耐磨性,常用于高频连接器、射频接口等关键区域,镀层厚度一般为 1-3μm。银:电阻率低,高频损耗小,适用于普通信号焊盘和线路,镀层厚度约 0.1-0.2μm,但需注意防氧化处理。铜:作为基础
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核心工艺特点镀层材质以铜、镍、金、锡为主,适配不同电子场景需求。对镀层均匀性、厚度精度要求极高,通常需控制在微米级。需结合载板材质(如陶瓷、树脂、硅)定制前处理和电镀参数。主要应用场景半导体封装载板:实现芯片与基板的电连接,提升散热效率。P
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前处理:包括除油、微蚀等步骤,去除基板表面的有机物和氧化层,粗化表面以提高镀层附着力。对于罗杰斯等特殊基材,可能还需要进行等离子体处理。种子层沉积:采用化学镀或物相沉积(PVD)方法,在基板表面形成一层薄的导电种子层,通常为铜或镍,厚度约
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关键加工环节前处理:包括除油、微蚀、活化,确保载板表面洁净无杂质。电镀沉积:通过电解或化学沉积方式,让金属离子均匀附着在载板表面。后处理:涵盖清洗、烘干、检测,保障镀层质量达标。核心工艺要求镀层精度极高:厚度公差需控制在 ±0.1μm 内,
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低信号损耗:利用银等低电阻率金属作为镀层材料,在高频趋肤效应下,降低信号传输损耗。如沉银工艺在 10GHz 信号下,插入损耗仅为 0.18dB / 厘米。前处理:包括除油、微蚀等步骤,去除基板表面的有机物和氧化层,粗化表面以提高镀层附着力。
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IC 载板电镀加工是半导体封装领域的核心工艺,专为 IC 载板(如 ABF 载板、BT 载板)沉积高精度金属镀层,核心作用是实现芯片与基板的可靠电连接、提升散热与抗腐蚀性能。核心工艺要求镀层精度极高:厚度公差需控制在 ±0.1μm 内,镀层
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高精度阻抗控制:高频高速线路板要求电镀层均匀性极高,以确保阻抗波动控制在极小范围内。如选择性电镀金工艺通过脉冲电镀,可使金层厚度偏差控制在 ±0.1μm,阻抗波动 ±3%。前处理:包括除油、微蚀等步骤,去除基板表面的有机物和氧化层,粗化表面
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主要应用场景半导体封装载板:实现芯片与基板的电连接,提升散热效率。PCB 高频载板:增强信号传输稳定性,降低损耗。精密电子载板:提高表面耐磨性和抗腐蚀能力,延长使用寿命。载板电镀加工的成本核心由 “材料 + 工艺 + 产能 + 辅助” 四大
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高精度阻抗控制:高频高速线路板要求电镀层均匀性极高,以确保阻抗波动控制在极小范围内。如选择性电镀金工艺通过脉冲电镀,可使金层厚度偏差控制在 ±0.1μm,阻抗波动 ±3%。图形电镀:通过光刻技术定义线路图形,然后对图形区域进行电镀加厚,如镀
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工艺流程前处理:包括对载板进行开槽、打通孔等操作,然后将载板贴在承载胶上,植入芯片和金属块,进行次塑封,形成塑封层;之后拆除承载胶,对一次塑封件另一面进行第二次塑封,形成第二塑封层。电镀准备:在塑封层和第二塑封层上打盲孔,以露出芯片的 IO
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常见镀层材料及应用金:具有良好的导电性、耐腐蚀性和耐磨性,常用于高频连接器、射频接口等关键区域,镀层厚度一般为 1-3μm。银:电阻率低,高频损耗小,适用于普通信号焊盘和线路,镀层厚度约 0.1-0.2μm,但需注意防氧化处理。铜:作为基础
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主要应用场景半导体封装载板:实现芯片与基板的电连接,提升散热效率。PCB 高频载板:增强信号传输稳定性,降低损耗。精密电子载板:提高表面耐磨性和抗腐蚀能力,延长使用寿命。IC 载板电镀加工是半导体封装领域的核心工艺,专为 IC 载板(如 A
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表面处理:根据应用需求,选择合适的表面处理工艺,如选择性电镀金 + 沉银组合。先全板沉银,再通过干膜掩膜保护,对关键区域进行选择性电镀金。后处理:包括清洗、烘干、防氧化处理等,如在沉银层表面涂覆一层有机防氧化剂,以延长其储存寿命。图形转移:
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主要应用场景半导体封装载板:实现芯片与基板的电连接,提升散热效率。PCB 高频载板:增强信号传输稳定性,降低损耗。精密电子载板:提高表面耐磨性和抗腐蚀能力,延长使用寿命。IC 载板电镀加工是半导体封装领域的核心工艺,专为 IC 载板(如 A
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表面平整度高:为减少信号散射,电镀层需具备极高的表面平整度,特别是在微带线、共面波导等结构中,通常要求镀层表面粗糙度 Ra<0.5μm。表面处理:根据应用需求,选择合适的表面处理工艺,如选择性电镀金 + 沉银组合。先全板沉银,再通过干膜掩膜