深圳龙岗专业载板电镀加工服务提供商,专业品质
2025-11-10 01:10:01 145次浏览
价 格:面议
载板电镀是指在金属载板上进行的电镀工艺。载板电镀的原理是基于电化学原理,即在电解质溶液的作用下,在金属载板上通过电流使金属离子还原,从而在载板上形成一层金属膜。不同的金属材料和电解质可以实现不同的电镀效果。
载板电镀的工艺流程包括:清洁、脱脂、进料、化学处理、水洗、电解沉积、除胶、终检等环节。其中,化学处理是整个工艺流程中重要的环节,其影响电镀效果的因素包括电压、电流、电解质浓度、流速等。
注意事项
1.化学处理液的浓度和电流要控制在合理的范围内,否则会使电镀层厚度和均匀度出现不合格情况。
2.金属载板的质量和表面处理决定了电镀层质量的好坏。
3.电镀过程容易产生热量,需要及时流动冷却水,并注意防止电解质溅出。
4.电极需要保持干净,以确保电流正常稳定。
镀层几何参数:控制是基础
载板的超细线路 / 凸点对几何尺寸要求极高,偏差会直接导致封装失效(如键合不良、短路)。
检测项目 核心标准要求 检测工具
镀层厚度 - 图形铜:厚度偏差≤±10%(如设计 10μm,实际需在 9-11μm);
- 镍层:2-5μm,偏差≤±0.5μm;
- 金层:0.05-0.15μm(ENEPIG),偏差≤±20% X 射线荧光测厚仪(XRF)、金相显微镜
凸点尺寸(Bump) - 直径偏差≤±5%(如设计 50μm,实际 47.5-52.5μm);
- 高度偏差≤±8%;
- 同一载板凸点高度差≤5μm 激光共聚焦显微镜、3D 轮廓仪
线路 / 焊盘精度 - 线宽偏差≤±10%(如设计 15μm,实际 13.5-16.5μm);
- 焊盘直径偏差≤±5%;
- 线路边缘粗糙度(Ra)≤1μm
-
载板电镀加工的成本核心由 “材料 + 工艺 + 产能 + 辅助” 四大类因素构成。核心成本构成因素原材料成本:占比,主要是镀层金属(铜、镍、金等)的价格波动,以及电镀液、添加剂等耗材费用。工艺相关成本:包括前处理 / 后处理的化学药剂、水电
-
前处理:包括除油、微蚀等步骤,去除基板表面的有机物和氧化层,粗化表面以提高镀层附着力。对于罗杰斯等特殊基材,可能还需要进行等离子体处理。种子层沉积:采用化学镀或物相沉积(PVD)方法,在基板表面形成一层薄的导电种子层,通常为铜或镍,厚度约
-
核心工艺特点镀层材质以铜、镍、金、锡为主,适配不同电子场景需求。对镀层均匀性、厚度精度要求极高,通常需控制在微米级。需结合载板材质(如陶瓷、树脂、硅)定制前处理和电镀参数。主要应用场景半导体封装载板:实现芯片与基板的电连接,提升散热效率。P
-
低信号损耗:利用银等低电阻率金属作为镀层材料,在高频趋肤效应下,降低信号传输损耗。如沉银工艺在 10GHz 信号下,插入损耗仅为 0.18dB / 厘米。表面平整度高:为减少信号散射,电镀层需具备极高的表面平整度,特别是在微带线、共面波导等
-
核心适用场景消费电子载板:手机、电脑的 PCB 主板、柔性载板,需轻量化、高导电镀层。工业电子载板:工控设备、汽车电子的耐高温载板,侧重镀层稳定性和抗老化性。特种电子载板:医疗设备、航空航天用载板,要求镀层低杂质、高可靠性。通讯载板电镀加工
-
常见镀层材料及应用金:具有良好的导电性、耐腐蚀性和耐磨性,常用于高频连接器、射频接口等关键区域,镀层厚度一般为 1-3μm。银:电阻率低,高频损耗小,适用于普通信号焊盘和线路,镀层厚度约 0.1-0.2μm,但需注意防氧化处理。铜:作为基础
-
核心工艺特点镀层材质以铜、镍、金、锡为主,适配不同电子场景需求。对镀层均匀性、厚度精度要求极高,通常需控制在微米级。需结合载板材质(如陶瓷、树脂、硅)定制前处理和电镀参数。主要应用场景半导体封装载板:实现芯片与基板的电连接,提升散热效率。P
-
前处理:包括除油、微蚀等步骤,去除基板表面的有机物和氧化层,粗化表面以提高镀层附着力。对于罗杰斯等特殊基材,可能还需要进行等离子体处理。种子层沉积:采用化学镀或物相沉积(PVD)方法,在基板表面形成一层薄的导电种子层,通常为铜或镍,厚度约
-
关键加工环节前处理:包括除油、微蚀、活化,确保载板表面洁净无杂质。电镀沉积:通过电解或化学沉积方式,让金属离子均匀附着在载板表面。后处理:涵盖清洗、烘干、检测,保障镀层质量达标。核心工艺要求镀层精度极高:厚度公差需控制在 ±0.1μm 内,
-
低信号损耗:利用银等低电阻率金属作为镀层材料,在高频趋肤效应下,降低信号传输损耗。如沉银工艺在 10GHz 信号下,插入损耗仅为 0.18dB / 厘米。前处理:包括除油、微蚀等步骤,去除基板表面的有机物和氧化层,粗化表面以提高镀层附着力。
-
IC 载板电镀加工是半导体封装领域的核心工艺,专为 IC 载板(如 ABF 载板、BT 载板)沉积高精度金属镀层,核心作用是实现芯片与基板的可靠电连接、提升散热与抗腐蚀性能。核心工艺要求镀层精度极高:厚度公差需控制在 ±0.1μm 内,镀层
-
高精度阻抗控制:高频高速线路板要求电镀层均匀性极高,以确保阻抗波动控制在极小范围内。如选择性电镀金工艺通过脉冲电镀,可使金层厚度偏差控制在 ±0.1μm,阻抗波动 ±3%。前处理:包括除油、微蚀等步骤,去除基板表面的有机物和氧化层,粗化表面
-
主要应用场景半导体封装载板:实现芯片与基板的电连接,提升散热效率。PCB 高频载板:增强信号传输稳定性,降低损耗。精密电子载板:提高表面耐磨性和抗腐蚀能力,延长使用寿命。载板电镀加工的成本核心由 “材料 + 工艺 + 产能 + 辅助” 四大
-
高精度阻抗控制:高频高速线路板要求电镀层均匀性极高,以确保阻抗波动控制在极小范围内。如选择性电镀金工艺通过脉冲电镀,可使金层厚度偏差控制在 ±0.1μm,阻抗波动 ±3%。图形电镀:通过光刻技术定义线路图形,然后对图形区域进行电镀加厚,如镀
-
工艺流程前处理:包括对载板进行开槽、打通孔等操作,然后将载板贴在承载胶上,植入芯片和金属块,进行次塑封,形成塑封层;之后拆除承载胶,对一次塑封件另一面进行第二次塑封,形成第二塑封层。电镀准备:在塑封层和第二塑封层上打盲孔,以露出芯片的 IO
-
常见镀层材料及应用金:具有良好的导电性、耐腐蚀性和耐磨性,常用于高频连接器、射频接口等关键区域,镀层厚度一般为 1-3μm。银:电阻率低,高频损耗小,适用于普通信号焊盘和线路,镀层厚度约 0.1-0.2μm,但需注意防氧化处理。铜:作为基础
-
主要应用场景半导体封装载板:实现芯片与基板的电连接,提升散热效率。PCB 高频载板:增强信号传输稳定性,降低损耗。精密电子载板:提高表面耐磨性和抗腐蚀能力,延长使用寿命。IC 载板电镀加工是半导体封装领域的核心工艺,专为 IC 载板(如 A
-
表面处理:根据应用需求,选择合适的表面处理工艺,如选择性电镀金 + 沉银组合。先全板沉银,再通过干膜掩膜保护,对关键区域进行选择性电镀金。后处理:包括清洗、烘干、防氧化处理等,如在沉银层表面涂覆一层有机防氧化剂,以延长其储存寿命。图形转移:
-
主要应用场景半导体封装载板:实现芯片与基板的电连接,提升散热效率。PCB 高频载板:增强信号传输稳定性,降低损耗。精密电子载板:提高表面耐磨性和抗腐蚀能力,延长使用寿命。IC 载板电镀加工是半导体封装领域的核心工艺,专为 IC 载板(如 A
-
表面平整度高:为减少信号散射,电镀层需具备极高的表面平整度,特别是在微带线、共面波导等结构中,通常要求镀层表面粗糙度 Ra<0.5μm。表面处理:根据应用需求,选择合适的表面处理工艺,如选择性电镀金 + 沉银组合。先全板沉银,再通过干膜掩膜