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产品信息
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深圳专业载板电镀加工服务提供商，专业生产厂家
2025-11-10 10:48:01 263次浏览
价 格：面议
载板电镀是先进封装载板（如 IC 载板、扇出型封装载板等）制造中的核心工艺，其质量直接决定载板的电气性能、可靠性及封装良率。由于载板需实现高密度互连（HDI）、超细线路 / 焊盘（线宽 / 线距常＜20μm）及承载芯片的高可靠性要求，其电镀工艺及质量检测标准远高于传统 PCB，核心围绕 “镀层均匀性、致密度、附着力、纯度” 四大维度展开
载板电镀与传统 PCB 电镀的核心差异
载板电镀的标准严苛性远高于传统 PCB，核心差异体现在：
对比维度 传统 PCB 电镀 载板电镀
线宽 / 焊盘尺寸 通常≥50μm 常＜20μm（超细线路）
镀层厚度偏差 ≤±15% ≤±10%（部分场景≤±8%）
附着力要求 ≥0.5N/mm（铜镀层） ≥0.8N/mm（铜镀层）
杂质含量 总杂质≤100ppm 总杂质≤50ppm（高纯度）
可靠性测试时长 湿热试验 500h 湿热试验 1000h
生产效率
水平线生产速度1.5-6.0m/min，具体根据基材厚度，小孔径，盲孔，纵横比等参数调整，整个流程时间在4-10min;
导通能力
No ICD,IST测试(百万通孔测试) CAF测试(小间距CAF改善)
应用产品类型
各种材料:常规及改良聚酰亚胺，液晶材料，聚四氟乙烯，聚酯树脂，陶瓷基板等;
硬板，软板，软硬结合板，HDI， IC载板等;
尤其适合高纵横比通盲孔多层，软板多层，软硬结合板，IC载板，超细微孔/盲孔10-30微米通孔/盲孔
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载板电镀加工的成本核心由 “材料 + 工艺 + 产能 + 辅助” 四大类因素构成。核心成本构成因素原材料成本：占比，主要是镀层金属（铜、镍、金等）的价格波动，以及电镀液、添加剂等耗材费用。工艺相关成本：包括前处理 / 后处理的化学药剂、水电25-11-10 23:39:01 -
前处理：包括除油、微蚀等步骤，去除基板表面的有机物和氧化层，粗化表面以提高镀层附着力。对于罗杰斯等特殊基材，可能还需要进行等离子体处理。种子层沉积：采用化学镀或物相沉积（PVD）方法，在基板表面形成一层薄的导电种子层，通常为铜或镍，厚度约25-11-10 23:39:01 -
核心工艺特点镀层材质以铜、镍、金、锡为主，适配不同电子场景需求。对镀层均匀性、厚度精度要求极高，通常需控制在微米级。需结合载板材质（如陶瓷、树脂、硅）定制前处理和电镀参数。主要应用场景半导体封装载板：实现芯片与基板的电连接，提升散热效率。P25-11-10 23:36:01 -
低信号损耗：利用银等低电阻率金属作为镀层材料，在高频趋肤效应下，降低信号传输损耗。如沉银工艺在 10GHz 信号下，插入损耗仅为 0.18dB / 厘米。表面平整度高：为减少信号散射，电镀层需具备极高的表面平整度，特别是在微带线、共面波导等25-11-10 23:36:01 -
核心适用场景消费电子载板：手机、电脑的 PCB 主板、柔性载板，需轻量化、高导电镀层。工业电子载板：工控设备、汽车电子的耐高温载板，侧重镀层稳定性和抗老化性。特种电子载板：医疗设备、航空航天用载板，要求镀层低杂质、高可靠性。通讯载板电镀加工25-11-10 23:33:01 -
常见镀层材料及应用金：具有良好的导电性、耐腐蚀性和耐磨性，常用于高频连接器、射频接口等关键区域，镀层厚度一般为 1-3μm。银：电阻率低，高频损耗小，适用于普通信号焊盘和线路，镀层厚度约 0.1-0.2μm，但需注意防氧化处理。铜：作为基础25-11-10 23:33:01 -
核心工艺特点镀层材质以铜、镍、金、锡为主，适配不同电子场景需求。对镀层均匀性、厚度精度要求极高，通常需控制在微米级。需结合载板材质（如陶瓷、树脂、硅）定制前处理和电镀参数。主要应用场景半导体封装载板：实现芯片与基板的电连接，提升散热效率。P25-11-10 23:30:01 -
前处理：包括除油、微蚀等步骤，去除基板表面的有机物和氧化层，粗化表面以提高镀层附着力。对于罗杰斯等特殊基材，可能还需要进行等离子体处理。种子层沉积：采用化学镀或物相沉积（PVD）方法，在基板表面形成一层薄的导电种子层，通常为铜或镍，厚度约25-11-10 23:30:01 -
关键加工环节前处理：包括除油、微蚀、活化，确保载板表面洁净无杂质。电镀沉积：通过电解或化学沉积方式，让金属离子均匀附着在载板表面。后处理：涵盖清洗、烘干、检测，保障镀层质量达标。核心工艺要求镀层精度极高：厚度公差需控制在 ±0.1μm 内，25-11-10 23:27:01 -
低信号损耗：利用银等低电阻率金属作为镀层材料，在高频趋肤效应下，降低信号传输损耗。如沉银工艺在 10GHz 信号下，插入损耗仅为 0.18dB / 厘米。前处理：包括除油、微蚀等步骤，去除基板表面的有机物和氧化层，粗化表面以提高镀层附着力。25-11-10 23:27:01 -
IC 载板电镀加工是半导体封装领域的核心工艺，专为 IC 载板（如 ABF 载板、BT 载板）沉积高精度金属镀层，核心作用是实现芯片与基板的可靠电连接、提升散热与抗腐蚀性能。核心工艺要求镀层精度极高：厚度公差需控制在 ±0.1μm 内，镀层25-11-10 23:24:01
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高精度阻抗控制：高频高速线路板要求电镀层均匀性极高，以确保阻抗波动控制在极小范围内。如选择性电镀金工艺通过脉冲电镀，可使金层厚度偏差控制在 ±0.1μm，阻抗波动 ±3%。前处理：包括除油、微蚀等步骤，去除基板表面的有机物和氧化层，粗化表面25-11-10 23:24:01 -
主要应用场景半导体封装载板：实现芯片与基板的电连接，提升散热效率。PCB 高频载板：增强信号传输稳定性，降低损耗。精密电子载板：提高表面耐磨性和抗腐蚀能力，延长使用寿命。载板电镀加工的成本核心由 “材料 + 工艺 + 产能 + 辅助” 四大25-11-10 23:21:01 -
高精度阻抗控制：高频高速线路板要求电镀层均匀性极高，以确保阻抗波动控制在极小范围内。如选择性电镀金工艺通过脉冲电镀，可使金层厚度偏差控制在 ±0.1μm，阻抗波动 ±3%。图形电镀：通过光刻技术定义线路图形，然后对图形区域进行电镀加厚，如镀25-11-10 23:21:01 -
工艺流程前处理：包括对载板进行开槽、打通孔等操作，然后将载板贴在承载胶上，植入芯片和金属块，进行次塑封，形成塑封层；之后拆除承载胶，对一次塑封件另一面进行第二次塑封，形成第二塑封层。电镀准备：在塑封层和第二塑封层上打盲孔，以露出芯片的 IO25-11-10 23:18:01 -
常见镀层材料及应用金：具有良好的导电性、耐腐蚀性和耐磨性，常用于高频连接器、射频接口等关键区域，镀层厚度一般为 1-3μm。银：电阻率低，高频损耗小，适用于普通信号焊盘和线路，镀层厚度约 0.1-0.2μm，但需注意防氧化处理。铜：作为基础25-11-10 23:18:01 -
主要应用场景半导体封装载板：实现芯片与基板的电连接，提升散热效率。PCB 高频载板：增强信号传输稳定性，降低损耗。精密电子载板：提高表面耐磨性和抗腐蚀能力，延长使用寿命。IC 载板电镀加工是半导体封装领域的核心工艺，专为 IC 载板（如 A25-11-10 23:15:01
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表面处理：根据应用需求，选择合适的表面处理工艺，如选择性电镀金 + 沉银组合。先全板沉银，再通过干膜掩膜保护，对关键区域进行选择性电镀金。后处理：包括清洗、烘干、防氧化处理等，如在沉银层表面涂覆一层有机防氧化剂，以延长其储存寿命。图形转移：25-11-10 23:15:01
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主要应用场景半导体封装载板：实现芯片与基板的电连接，提升散热效率。PCB 高频载板：增强信号传输稳定性，降低损耗。精密电子载板：提高表面耐磨性和抗腐蚀能力，延长使用寿命。IC 载板电镀加工是半导体封装领域的核心工艺，专为 IC 载板（如 A25-11-10 23:12:02 -
表面平整度高：为减少信号散射，电镀层需具备极高的表面平整度，特别是在微带线、共面波导等结构中，通常要求镀层表面粗糙度 Ra<0.5μm。表面处理：根据应用需求，选择合适的表面处理工艺，如选择性电镀金 + 沉银组合。先全板沉银，再通过干膜掩膜25-11-10 23:12:02
